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半自動晶圓電鍍設備
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半自動晶圓電鍍設備

產品時間:2021-04-09 13:12:33

簡要描述:

特點:通道數(shù)量:1~3條生產通道速度:3.0m/min產品規(guī)格:引線框架類料寬10-80mm,片厚0.08-1.5mm,鍍區(qū)精度0.0075mm

詳細介紹

設備系列:SP系列

設備分類:生產型(P),研發(fā)型(R)

工藝類別:晶圓電鍍

晶圓尺寸:4-12inch

工藝類型:Au, Cu, Ni, Sn, Ag,Pd, Au/Sn alloy ...

工藝應用:RDL, PillarBumpTSV

工藝操作:自動

晶圓類型:Si, GaAs, GaN, InP,SiC, Ceramic, Glass ...

晶圓尺寸:2-12inchf異型片


 


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